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  1. 公司新聞

    錦正茂高溫磁場退火爐的應用及參數


    錦正茂高溫磁場退火爐的應用及參數 

    錦正茂高溫磁場退火爐是由升溫高溫爐,高溫爐加熱電源,Labview控制軟件,電磁鐵,高精度雙極性恒溫電源,分子泵組,水冷機組共同組成的一套反饋調節的加熱系統。 錦正茂高溫磁場退火爐的應用及參數

    產品概述:

     北京錦正茂科技有限公司生產的高溫真空磁場加熱爐系統,是有升溫高溫爐,高溫爐加熱電源,Labview控制軟件,電磁鐵,高精度雙極性恒溫電源,分子泵組,水冷機組共同組成的一套反饋調節的加熱系統。 錦正茂高溫磁場退火爐的應用及參數

    該高溫磁場加熱爐系統是由分子泵組中的機械泵(干泵)先對真空腔體(樣品腔)進行粗抽,達到可以開啟分子泵的極限真空時,在開啟分子泵進行高真空的抽取,達到客戶所需的真空度。打開軟件,通過在軟件中輸入需要的磁場值和溫度值,通過閉循環反饋調節,使設備內樣品的溫度自動控制并穩定在某一個溫度值,軟件可以按照用戶給定的實驗條件完成實驗。  錦正茂高溫磁場退火爐的應用及參數

    磁場控制:用戶可以直接通過軟件設定所需要的磁場大小,由高精度高斯計讀取實際磁場值,再將實際讀出的磁場值反饋給高精度恒流電源,通過電源內部軟件處理后,直接由控制高精度恒流電源的輸出電流,從而實現用戶所需要的磁場,并實時顯示在軟件上;

    溫度控制:通過在軟件上人機交互界面直接設置所需要的溫度值,計算機軟件處理后指令到達高溫爐加熱控制器??刂破魍ㄟ^溫度傳感器(熱電偶)讀出樣品區的實際溫度值,并通過其內部設置的模糊控制PID調節輸出電流的大小,總而使溫度值穩定在某一精度范圍內,從而實現用戶所需要的不同溫度。 錦正茂高溫磁場退火爐的應用及參數

    真空環境:通過分子泵組獲得真空環境,由高真空全量程真空計顯示并監控,并實時的將檢測結果傳遞給計算機。

    退火過程:在強磁場(或無磁)環境下對樣品進行加熱,加熱到一定溫度(用戶需要自己設定)并保持在該溫度,再持續加一個磁場(可隨時變化),達到用戶的目的后,關閉磁場,關閉加熱環境,冷卻到室溫。

    樣品環境:高溫磁場加熱爐可以將被測樣品同時置于強磁場、高真空、高溫環境中。同時也可以單獨或任意組合這三種實驗環境,滿足不同樣品在不同環境下的測試要求。

    適應范圍:需在高溫、高真空、強磁場環境中加熱或去磁的各種軟磁性材料。

    主要技術指標:

    ※ 真空室及主要零部件材質均為304無磁不銹鋼;

    ※ 采用的真空獲得系統為分子泵組;真空測量為數顯全量程真空計;

    ※ 真空度及漏率:① 真空室極限真空度610-5Pa(冷態);②漏率<10-11Pa.L/s,真空度隨著溫度變化,會出現波動,屬于正常情況;

    ※ 在室溫到900度,升溫速率優于100K/min,高溫加熱溫度1000℃;控溫精度:±1℃;

    ※ 加熱時,加熱絲被封裝在石英管內,極大程度的減少由于加熱絲的揮發造成樣品表面附著物的污染;

    ※ 匹配磁鐵電源:雙極性,穩定度優于50ppm/h,平滑過零無斷點;

    ※ 匹配電磁鐵:長時間運行穩定度<±0.5Gs;

    ※ 冷卻方式:水冷。


    樣品腔尺寸

     

     

    配備磁場



     

     

    京公網安備 11010602006210號

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